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金屬氫化物氫凈化裝置



工作原理

金屬氫化物儲氫凈化裝置是利用儲氫合金選擇性吸氫的能力,吸收較低純度氫氣中的氫形成金屬氫化物,之后用氫氣將濃縮于裝置空間的雜質(zhì)氣體吹除,即可提高裝置中氫氣的純度,從而起到凈化氫氣的作用。
金屬氫化物儲氫凈化裝置由兩個相同的儲氫凈化器組成,可實現(xiàn)連續(xù)凈化氫氣的目的,其示意圖如下:

圖1 金屬氫化物儲氫凈化裝置示意圖

金屬氫化物儲氫凈化裝置通過以下過程實現(xiàn)了持續(xù)工作:(1)儲氫凈化器Ⅰ吸氫:將低純度氫通入儲氫凈化器Ⅰ,同時向水套中通入常溫水,使其開始吸氫。(2)儲氫凈化器Ⅰ放氫、儲氫凈化器Ⅱ吸氫:儲氫凈化器Ⅰ吸氫完成后,放出雜質(zhì)氣,然后向其水套中通入高溫水,儲氫凈化器Ⅰ開始放出高純氫氣;于此同時,將低純度氫通入儲氫凈化器Ⅱ,使其開始吸氫。(3)儲氫凈化器Ⅱ放氫、儲氫凈化器Ⅰ吸氫:儲氫凈化器Ⅰ放氫完全后,此時儲氫凈化器Ⅱ完成吸氫;向儲氫凈化器Ⅱ的水套中通入高溫水,使其開始放氫;同時將低純度氫通入儲氫凈化器Ⅰ,使其開始吸氫。如此通過兩個儲氫凈化器交叉進行吸放氫,實現(xiàn)了連續(xù)凈化氫氣的操作。


產(chǎn)品規(guī)格
型號
處理量
產(chǎn)氫純度
進氫壓力(MPa)
出氫壓力
(MPa)
循環(huán)水量(m3/h)
HYP-5
≤ 5m3/h
99.999%
2~3
0.1~3
0.6
HYP-10
≤ 10m3/h
99.999%
2~3
0.1~3
1.3
HYP-30
≤ 30m3/h
99.999%
2~3
0.1~3
3.8
HYP-50
≤ 50m3/h
99.999%
2~3
0.1~3
6.4
HYP-100
≤ 100m3/h
99.999%
2~3
0.1~3
12.8


該產(chǎn)品采用不銹鋼材質(zhì)制作,工作時配套使用20~30℃常溫水浴和50~60℃高溫水浴,可將低純度原料氫凈化提純至氫氣純度為99.999%以上,原料氫中不得含有H2O、O2、H2S、NO、SO2、Cl2及CO等會對裝置內(nèi)部的儲氫合金產(chǎn)生毒害作用的雜質(zhì)氣體。表中列出了幾種常用規(guī)格的產(chǎn)品,我們也可按照客戶要求定制產(chǎn)品。


產(chǎn)品特性及應(yīng)用

·石化、化工、醫(yī)藥加氫反應(yīng);
·航空航天熱處理,人造金剛石,半導(dǎo)體和集成電路制造的保護氣;
·粉末冶金、金屬焊接、重金屬冶煉凈化;
·航天飛機和潛艇的水分解與合成,原子能工業(yè)中的氫濃縮等。



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